半導(dǎo)體芯片可靠性檢測
       高溫存儲試驗、溫度循環(huán)試驗、溫濕度試驗等。
 

可靠性測試
       EOS過度電性應(yīng)力/涌浪測試一般件、ESD(HBM)一般件、ESD(MM)一般件、ESD(Latch-up)一般件、Non socket CDM Orion CDM 一般件、System-level ESD test 一般件、TLP ESD test 一般件、UBHAST 非偏壓高加速壽命試驗、TCT 溫度循環(huán)試驗、BLT 偏壓壽命試驗、HTS 高溫貯存試驗 0~ 300c、LTS 低溫貯存試驗、THB 溫濕度貯存偏壓試驗、PCT 高溫水蒸汽壓力試驗、HAST 高加速壽命試驗、Pre-condition-not include SAT、Solderability 沾錫試驗、PTC 電源溫度循環(huán)、SAT 一般件。
 
服務(wù)項目 描述
芯片失效分析 EMMI 失效點定位
OBIRCH 擊穿路徑成像
FIB 電路修改:0.55 um以上、電路修改:0.11-0.28 m及以上工藝(鋁制程)、電路修改:0.11-0.18 um (銅制程)、電路修改: 55-90 nm、電路修改:28-40 nm、切割:IC橫截面、切割:TEM樣品制備
SEM 電子成像
EDX 元素分析
DECAP 金線、銅線、合金
OM 高清光學(xué)顯微成像,可拼圖
AFM(C-AFM) 材料微觀形貌、大小、厚度和粗糙度表征;表面電勢、導(dǎo)電性、彈性模量、壓電系數(shù)
XPS 元素種類、化學(xué)價態(tài)及相對含量鑒別;元素或化學(xué)態(tài)表面分布分析
TEM 材料微區(qū)觀察與分析
FIB+TEM 透射樣品制祥+觀察
XRD 金屬和非金屬定性定量分析
Raman 物質(zhì)結(jié)構(gòu)鑒定、分子相互作用分析
橢偏儀 各種介質(zhì)膜厚度及折射率
FT-IR 樣品成分、結(jié)構(gòu)鑒定
芯片電學(xué)測試 靜態(tài)特性參數(shù) 靜態(tài)參教、特性曲線(Vd-Id, ld-Vg)
動態(tài)特性參數(shù) 等效電容Ciss, Cosg, Crss;柵極等效電阻Rg;柵極電荷特性Qg;阻性開關(guān)特性td(on),td(off),tr, tf;感性開關(guān)特性td(on), td (off),tr, tf;二極管反向恢復(fù)特性trr, Qrr;短路耐量(時間)
熱阻特性 穩(wěn)態(tài)熱阻、瞬態(tài)熱阻
抗靜電雷擊測試 二極管液涌測試儀(正向)、二極管液浦測試儀(反向)、雷擊浪涌發(fā)生器、峰值電壓測試設(shè)備、雷擊浪涌測試設(shè)備、TLP

手???機:18036862869

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